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光敏印章是什么

发布时间:2019-09-09 作者::admin 人气::
  光敏印章是20世纪90年代初有日本发明的,是由一种特殊的化工合成资料,通过专用设备瞬间宣布强光辐射,使资料外表发作光氧化及热交联效果然后制造成的印章。
 
  印章资料
 
  专用的光敏印章资料(光敏平面橡胶)是一种超微泡资料,其外表的为空孔径十分小,平均孔径小于30um。自身具有储油渗油及光闪耀特性。光敏资料在收到强光照射的时分,能够吸收光能并转换成热能。曝光时,光敏资料外表见光部分瞬间吸收大量的光能后,温度迅速上升并达到熔点。闪光结束后,外表溶体的温度迅速下降,构成必定厚度和强度的薄膜,这层薄膜同时起到封孔闭空的效果,并阻隔印油的浸透。
 
  制造原理
  使用光敏资料的特征,用激光打印机将章稿打印在具有透光特征的硫酸纸或激光胶片上,将其掩盖在光敏资料上后放在曝光机内曝光,因为章稿图文自身具有黑度不能曝光,因而章稿图文掩盖的光敏资料没有遭到光照依然能够储油渗油,而其他部分则因为遭到光照发作凝结不能渗油,然后完成了印章的制造。因为激光打印机的打印精度在1200DPI以上,加之光敏资料自身的超微孔结构,因而,光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章(如国产原子印章、浸透印)或其他技能方法制造的印章的精度高出许多,是目前制造精度最高的一种印章。
 
  基本结构
 
  光敏印章的印面有顶面和底面构成。顶面有细微细密的敞开微孔构成,平均孔径小于30Um;底面成黑色,滑润平坦,其外表必定厚度和强度的薄膜构成。这层薄膜起到封孔闭孔、阻隔印油浸透的效果,与顶面坚持0.1~0.3mm的水平深度。
 
  光敏印章是根据设计图案制造而成,印章图案有图文和空白区构成。图文区制成印章顶面,空白区制成印章底面。顶面微孔中的印油在盖印压力效果下从微孔中深处构成印迹,但制造印章过程中出现在空白的细微脏点,可导致该部位为空不能封闭,成凸面开孔,构成瑕疵点印迹。

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